FZ Silicon Wafer Semiconductor

FZ Silicon Wafer Semiconductor

Περιγραφή Η γκοφρέτα πυριτίου FZ είναι ένας τύπος γκοφρέτας πυριτίου υψηλής καθαρότητας που χρησιμοποιείται συνήθως στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το FZ σημαίνει Float Zone, η οποία είναι μια μέθοδος καλλιέργειας μονοκρυσταλλικού πυριτίου. Κατά τη διαδικασία FZ, μια ράβδος πυριτίου αναρτάται κατακόρυφα σε έναν κλίβανο υψηλής θερμοκρασίας και...

Περιγραφή

 

Περιγραφή

Η γκοφρέτα πυριτίου FZ είναι ένας τύπος γκοφρέτας πυριτίου υψηλής καθαρότητας που χρησιμοποιείται συνήθως στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το FZ σημαίνει Float Zone, η οποία είναι μια μέθοδος καλλιέργειας μονοκρυσταλλικού πυριτίου.

Κατά τη διαδικασία FZ, μια ράβδος πυριτίου αιωρείται κάθετα σε έναν κλίβανο υψηλής θερμοκρασίας και δημιουργείται μια λιωμένη ζώνη θερμαίνοντας ένα μικρό τμήμα της ράβδου. Η λιωμένη ζώνη μετακινείται κατά μήκος της ράβδου και καθώς κρυώνει, στερεοποιείται σε ένα ενιαίο κρύσταλλο. Η διαδικασία επαναλαμβάνεται πολλές φορές μέχρι όλο το μήκος της ράβδου να μετατραπεί σε ένα μόνο κρύσταλλο.

Οι γκοφρέτες πυριτίου FZ έχουν πολύ υψηλό επίπεδο καθαρότητας, με επίπεδα ακαθαρσίας συνήθως λιγότερο από ένα μέρος ανά δισεκατομμύριο. Αυτή η καθαρότητα τα καθιστά ιδανικά για χρήση σε ηλεκτρονικές συσκευές υψηλής απόδοσης, όπως μικροεπεξεργαστές, τσιπ μνήμης και ηλιακά κύτταρα. Οι γκοφρέτες FZ χρησιμοποιούνται επίσης στην επιστημονική έρευνα και στην παραγωγή αισθητήρων και ανιχνευτών υψηλής απόδοσης.

Προσδιορισμός

Διάμετρος 2"  3"  4"  5"  6"  8" 
Μέθοδος Ανάπτυξης FZ
Προσανατολισμός < 1-0-0 > , < 1-1-1 > 
Τύπος/Dopant Intrinsic, N Τύπος/Phos, P Τύπος/Βόριο
Πάχος (χμ) 279 380 525 625 675 725
Ανοχή πάχους Τυπικό ± 25um ±50μ
Αντίσταση (Ohm-cm) 1000-20000, Maximum Capabilities>20000 και 1-5
Ολοκληρώθηκε η επιφάνεια P/E , P/P, E/E, G/G
TTV (χμ) Πρότυπο< 10 um
Τόξο/Στημόνι (um) Πρότυπο<40 um

FZ Silicon Wafer Semiconductor

 

 

 

 

 

 

Δημοφιλείς Ετικέτες: fz ημιαγωγός γκοφρέτας πυριτίου

Μπορεί επίσης να σας αρέσει

Τσάντες αγορών